Новые фабрики и линии, техпроцессы, литография и оборудование для производства микросхем.
Крупнейший в мире центр совместной разработки полупроводниковых процессов и оборудования занимает 600 тыс. квадратных футов и включает почти четыре акра чистых помещений. Основателями стали TSMC, Intel, Samsung Electronics, Micron и SK hynix.

Видья Виджай из Nordson Test & Inspection утверждает, что ручная проверка центрирования пластин, точности переноса и зазоров стала узким местом современных фабрик. Датчики, работающие внутри установки в реальных условиях процесса, включая вакуум, дают количественные измерения по осям X, Y и Z и сокращают время настройки на 30–70 процентов. Такая измерительная инфраструктура рассматривается как обязательное условие перехода к прогнозирующему управлению.